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ZKE疏水性气相二氧化硅实验室分散机
ZKE疏水性气相二氧化硅实验室分散机

参考价格

5-10万元

型号

KZSD2000

品牌

ZKE

产地

太仓

样本

暂无
太仓中新宝智能装备有限公司

会员

|

第7年

|

生产商

工商已核实

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核心参数
  • 能耗:

    11KW
  • 处理量:

    10000L
  • 物料类型:

    干粉-膏体
  • 工作原理:

    立式
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产品名称:ZKE疏水性气相二氧化硅小试型分散机,疏水性二氧化硅分散机,二氧化硅纳米级分散机

(洽谈:1-7-3-6-8-3-4-7-9-6-0

疏水性气相二氧化硅简介:

   疏水性气相二氧化硅一般是经过后处理的产品。可以选用不同型号的气相法或沉淀法二氧化硅作为原料,通过硅烃基基团与合适的化合物反应;这一产品由于表面连接不水解的甲基基团而呈疏水性。

与原本亲水性二氧化硅不同的是,疏水性气相二氧化硅不能被水所湿润。尽管疏水性气相二氧化硅密度大于水的密度,但它们可以浮于水面上。疏水化后,所吸收的水分的量会比原来亲水性气相化硅大幅降低。

通过对气相二氧化硅进行表面处理,其技术性能在一些特定的应用领域可以得到优化,可以使之有效改善许多液体聚合物体系的流变特性,尤其是在环氧树脂体系内。

疏水性气相二氧化硅的特性:

 

疏水性气相二氧化硅是通过亲水性气相二氧化硅与活性硅烷(例如氯硅烷六甲基二硅胺烷)发生化学反应而制得。它具有疏水性憎水性),而且不能在水中分散。为了解决工业中一些特殊的技术

问题,各种型号的疏水性气相二氧化硅被研发出来。如通过用硅烷或硅氧烷处理改性亲水级别的气相法二氧化硅生产疏水性的气相法二氧化硅,在*终的产品中,化学处理剂以化学键方式结合在原来的亲水性氧化物上。除了亲水性产品的上述优点外,疏水性气相二氧化硅产品的特点是:低吸湿性、很好的分散性、即使对于极性体系也有流变调节能力。有些产品,在疏水处理的基础上再经过结构改性,可为客户研发新产品和提高产品的性能提供进一步的帮助。例如:在液体体系中,疏水性气相二氧化硅可以达到高添加量,而对体系的粘度影响很小。

疏水性气相二氧化硅的应用:

  气相二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,由于其粒径很小,因此比表面积大,表面吸附力强,表面能大,化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能,以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性,在众多学科及领域内独具特性,有着不可取代的作用。气相二氧化硅俗称“超微细白炭黑”,广泛用于各行业作为添加剂、催化剂载体,石油化工,脱色剂消光剂,橡胶补强剂,塑料充填剂,油墨增稠剂,金属软性磨光剂,绝缘绝热填充剂,*日用化妆品填料及喷涂材料、医药、环保等各种领域。并为相关工业领域的发展提供了新材料基础和技术保证。由于它在磁性、催化性、光吸收、热阻和熔点等方面与常规材料相比显示出特异功能,因而得到人们的极大重视。

(洽谈:1-7-3-6-8-3-4-7-9-6-0

疏水性气相二氧化硅小试型分散机的优势:

  气相二氧化硅有着“超微细白炭黑”的俗称,广泛应用于各行业作为添加剂,而由于它超细微体的一些自身特性, 疏水性气相二氧化硅在各行业的应用中都遇到了同样的麻烦,无法与各类液体复合材料充分的均匀分散,大大降低了它的性能。上海SGN新技术,独特创意,融化新理念。将SGN高剪切胶体磨进行进一步的改进,在原来GM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改进成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改进型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种创新的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨分散机”、“研磨乳化机”。

 

研磨分散机,这种独特的设计,放眼世界,独上海SGN一家

 

研磨分散机,简单的来讲就是将高剪切胶体磨和高剪切分散机,合二为一了。同时具备胶体磨和分散机的功能,并且减少了胶体磨和分散机串连后的,时间差因素。从成本上来讲,原先两台设备的价格,现在用一台研磨分散机就可以完成,性价比更高。

选型表:

 

型号

流量L/H

转速rpm

线速度m/s

功率kw

入/出口连接DN

GMSD2000/4

300

18000

51

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

14000

51

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

2000

9200

51

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

5000

2850

51

37

DN80/DN65

GMSD2000/30

8000

1420

51

55

DN150/DN125

 

ZKE疏水性气相二氧化硅小试型分散机,疏水性二氧化硅分散机,二氧化硅纳米级分散机



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10分

售后服务

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10分

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