中环1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统-参数-价格-中国粉体网

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产品用途：

此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔

电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。

产品组成：

CVD系统配置：

1.1200度开启式真空管式炉（可选配单温区及双温区）。

2.滑动系统分为手动、电动滑动，并配有风冷系统。

3.内外双石英管，采用真空可通气氛双法兰特殊连接。

4.多路气体流量控制系统（质子流量控制器和浮子流量控制器）

5.真空系统（可选配中真空或高真空）

产品特点：

产品独特性

1 控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。

2 气路快速连接法兰结构采用本公司独有的知识产权**设计,提高操作便捷性。

3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵，防止意外漏气造成分子泵损坏，延长系统使用寿命。

4 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动，等程序完成，炉体按设定的速度滑动，因有滑动限位功能，炉体不会发生碰撞，待样品露出炉体后，通过风冷系统快速降温。

5 双管真空密封法兰，反应气体可以在内外管之间发生反应，冷却气体可通过内管，从而使内管外壁温度降低。

系统名称	1200℃双管滑动式单/多温区CVD系统
系统型号	CVD-12II6SH-3Z/G	CVD-12III9SH-3Z/G
**温度	1200℃
加热区长度	610mm	940mm
恒温区长度	400mm	700mm
温区	双温区	三温区
石英管管径	内管：Φ80mm 外管：Φ100mm
额定功率	4.8Kw	7.2Kw
额定电压	220V	380V（三相）
滑动距离	485mm	650mm
滑动方式	手动滑动/自动滑动(由温度控制器自动控制移动，当程序完成，炉子按设定的速度滑动）
温度控制	国产程序控温系统50段程序控温；
控制精度	±1℃
炉管**工作温度	＜1200℃
双管法兰连接	采用双法兰双卡箍连接可扩展多功能，并且分别独立对内管和外管进行真空和气体流量控制.密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术，在密封法兰与管外壁间形成了密封，在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效，该密封法兰的安装只需在**次使用设备的时候安装
气体控制方式	质量流量计
气路数量	3路（可根据具体需要选配气路数量）
流量范围	0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定
精度	±1%F.S
响应时间	≤4sec
工作温度	5-45℃
工作压力	进气压力0.05-0.3Mpa(表压力）
系统连接方式	采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪
规格	高真空
系统真空范围	1x10-3Pa-1x10-1Pa
真空泵	真空分子泵理论极限真空度 5x10-6Pa抽气速率1600L/S 额定电压220V 功率2Kw
炉体外形尺寸	480×770×605mm	410×1100×605mm
系统外形尺寸	530×1440×750mm(不含高真空)
系统总重量	340Kg