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砂磨分散后D50=36纳米，D100=57纳米。品级：
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产品：3纳米原晶、片状、高纯(99.91%)、高分散、a-氧化铝，亦即**芯片光刻机用精抛料。砂磨分散后D50=36纳米，D100=57纳米。
即顶级芯片光刻机用精抛料
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