烧结气氛:
空气温控精度:
±1℃最高温度:
1150℃额定温度:
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产品型号: KM-CVD-1200-I-S
所属分类:单温区微型CVD系统
简要描述:CVD系统在常规产品上进行了一系列的改进,包括:供气系统集成、真空系统集成等。体现出体积小、操作方便、智能化程度高等特点。
CVD系统特点:
KM-CVD-1200-I-S单温区微型CVD系统管式炉是一款小型化学气相沉积薄膜类制备设备,该设备在常规产品上进行了一系列的改进,包括:供气系统集成、真空系统集成等。体现出体积小、操作方便、智能化程度高等特点。
1、双层空气冷却钢壳保持炉表面温度低于60°C;
2、高纯状氧化铝纤维绝缘层,**限度节约能源;
3、炉膛和加热元件上的特殊耐火涂层可延长炉子的使用寿命;
CVD系统参数:
项目 型号 | KM-CVD-1200-I-S |
炉管尺寸 | Φ60×1000mm (Φ30/50/80/100mm可选) |
**温度 | 1150℃ |
工作温度 | 1100℃ |
推荐升温速率 | ≤10℃/min |
加热区长度 | 440mm |
功率 | 3KW |
电压 | 单相AC220V, 50Hz |
温控系统 | K型热电偶 集成式触摸屏控制 |
控温精度 | ±1 ℃ |
密封系统 | 炉管两端配有快开式密封法兰 |
外形尺寸 | 620mm(L) ×420mm(W) × 580mm(H) |
气体量程 | 100~1000SCCM |
气路数量 | 2~4路(MFC) |
气路工作温度 | 5~45℃ |
VRD-8 | **承载量:1000Lbs;抽气速率:10m³/h; 极限真空度:10-1Pa |
真空度 | 双极旋片机械泵:极限10^-1Pa 分子泵机组:极限10^-3 Pa |
体现出体积小、操作方便、智能化程度高等特点。