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硅负极(纳米硅、氧化亚硅、多孔硅)CVD气相沉积碳包覆回转炉
适用物料:纳米硅、硅氧(氧化亚硅)、多孔硅
使用工况:CVD气相沉积碳包覆(一次包覆、二次包覆)
均匀包覆碳含量:1.6%-22%(可控可调)
适用气体:氮气、氩气、甲烷、乙炔、氨气(丙酮、苯、乙醇、沥青等)
公司备有多台公斤级、百公斤级硅负极用cvd炉系统免费供客户实验用,公司目前已完成300+批次的硅负极cvd实验,通过客户反馈实验数据不断优化cvd炉的设计。通过大量实验积累了丰富的cvd经验。
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