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通用扫描迁移率粒度仪USMPS集成数据记录仪
通用扫描迁移率粒度仪USMPS集成数据记录仪

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德国

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帕剌斯仪器(上海)有限公司

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U-SMPS 2050 X / 2100 X / 2200 X

通用扫描迁移率粒度仪,集成X射线电离,适用于8 – 1200 nm的各种应用

    粒径分布从8 nm到1.2 µm
    连续和快速扫描的测量原理
    高分辨率,多达128个尺寸类别/衰减
    适用于高达108颗粒/立方厘米的浓度
    可以连接其他制造商的各类DMA和纳米粒子计数器
    图形显示测量值
    直观操作,使用7英寸触摸屏和GUI
    集成数据记录仪
    支持多种接口和远程访问
    低维护
    功能可靠
    减少您的运营费用 * 请联系Palas®了解更多信息。

442.jpg

图1:U-SMPS 2050 X / 2100 X / 2200 XPalas®通用扫描迁移率粒度仪(U-SMPS)有两种版本。长分类柱型号(2050 X / 2100 X / 2200 X型号)能够可靠地测定8至1,200 nm的粒径分布。已经集成软X射线源作为中和器(见图1)。代替放射性中和(例如使用Kr-85)的优点是在运输过程中无需遵循以下要求。

Palas®U-SMPS系统包括一个分类器[在ISO 15900中定义为差分电迁移率分类器(DEMC),也称为差分迁移率分析器(DMA)],根据气溶胶颗粒的电迁移率选择并传递给出口。

然后,冷凝颗粒计数器(例如Palas®UF-CPC)对这些颗粒进行计数。三种可用的UF-CPC模型可实现各种浓度范围内的优异单颗粒计数。 Wiedensohler教授(德国IfT莱比锡)开发了Palas®的算法,用于对测量数据进行反演以产生U-SMPS粒度分布。

U-SMPS使用触摸屏上的图形用户界面进行操作。单个粒子分布扫描可以在短短30秒内执行,或者每十个通道多达执行64个尺寸通道,在此期间,DEMC分类器中的电压连续变化,从而导致每个尺寸通道的计数统计更高。集成的数据记录器允许在设备上以线性和对数显示测量值。随附的评估软件提供各种数据评估(广泛的统计和平均)和导出功能。

U-SMPS通常作为独立设备运行,也可以使用各种接口(USB,LAN,WLAN,RS-232 / 485)连接到计算机或网络。 Palas®U-SMPS支持其他制造商的各类DMA、CPC和气溶胶静电计。

U-SMPS的准确尺寸确定和可靠性能尤其重要,特别是对于校准。所有组件都通过严格的质量保证测试,并在内部组装。

图2展示U-SMPS的工作原理:

气溶胶在进入分类器(DEMC列)之前经过调节。可选的干燥器(例如硅胶,Nafion)可以去除颗粒中的水分。使用双极中和器(XRC 049)可以确保测定的气溶胶电荷分布。为了去除大于分类器尺寸范围的颗粒,需要在DEMC的入口处使用撞击器。

663.jpg

图2:通用扫描迁移率粒度仪(U-SMPS)的工作原理

然后,气溶胶通过入口导入DEMC色谱柱。沿外部电极的气溶胶流在此与护套气流仔细合并。重要的是在此处避免任何湍流,以确保层流。电极的表面在光滑度和公差方面必须具有极高的质量。

鞘空气是干燥、无颗粒的载气(通常是空气),其体积大于连续在闭环中循环的气溶胶体积。鞘空气与样品空气的体积比定义传递函数,从而定义尺寸分类器的分辨率。

通过施加电压在内和外电极之间产生径向对称的电场。内电极在末端带有小缝隙,带正电。通过平衡每个粒子上的电场力及其在电场中的空气动力学阻力,带负电的粒子被转移到正电极。根据它们的电迁移率,一些颗粒会穿过狭缝并离开DEMC。

在工作中,电压并因此电场连续变化。结果是,迁移率变化的粒子离开DEMC,并由纳米粒子计数器(例如缩合粒子计数器)(例如Palas®UF-CPC)连续测量。

在实际条件下,经过测试的软件为组合数据(电压,粒子数等)并获得粒度分布提供特殊的处理功能,如图3所示。

46.jpg

图3:Palas®DNP 3000颗粒发生器产生的气溶胶的粒径分布

用户界面和软件

基于持续的客户反馈,我们已设计良好的用户界面和软件,以实现直观的操作、实时控制,并可以显示测量数据和参数。

此外,软件还通过集成的数据记录器、完善的导出功能和网络支持为数据管理提供支持。可以使用许多可用的显示选项和测量数据评估功能。

可用系统

下面的文档介绍DEMC与Palas®提供的计数器的各种组合。 其他制造商提供的大多数DMA、CPC和气溶胶静电计都可以用作U-SMPS系统的组件。



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产品质量

10分

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