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面议型号
GD Profiler品牌
HORIBA产地
法国样本
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光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段,可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息,从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳、光学玻璃、核材料等。
GD-Profiler 2 作为超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体和非导体复合镀层的分析,操作简单、便于维护,是镀层材料研发、质控的理想工具。
· 使用脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。
· 采用多项技术,如高动态检测器(HDD),可测试ppm-100%的浓度范围,Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。
· 分析速度快(2-10nm/s)
技术参数:
1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑为平坦、等离子体稳定时间短,表面信息无任何失真。
2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜,也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。
3、Polyscan多道(同时)光谱仪可全谱覆盖,光谱范围从110nm-800nm,可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有大的光通量,因而拥有**的光效率和灵敏度。
5、高动态检测器(HDD)可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。
6、宽大的样品室方便各类样品的加载。
7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。
8、HORIBA独有的单色仪(选配)可大地提高仪器灵活性,可实现固定通道外任意一个元素的同步测试,称为n+1。
9、适用于ISO14707和16962标准。
仪器原理:
辉光放电腔室内充满低压氩气,当施加在放电两的电压达到一定值,超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电,放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下,正电荷离子加速轰击到(阴)样品表面,产生阴溅射。在放电区域内,溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。
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