技术介绍：系统采用双传感器设计，可在石墨盘旋转同时进行整个石墨盘的漫反射率、镜面反射率及发射率二维分布Mapping 测量；

原理用途：物体的发射率与物体的表面状态(包括物体表面温度、表面粗糙度、面形以及表面氧化层、涂层、缺陷、残留物、表面杂质等)有关。所以，通过对石墨盘各个点发射率的测量可以直接反映出石墨盘表面肉眼难以观测到的表面细节，同时基于黑体辐射原理进一步评估石墨盘表面温度的分布情况。这对有效控制器件的质量，以及优化生长工艺有极大的帮助。

技术指标及特点：

1. 扫描尺寸：700mm；

2. 适配石墨盘：大部分商用石墨盘；

3. 扫描分辨率：径向分辨率0.05mm，角度分辨率0.1°，用户可自定义；

4. 扫描时间：10 分钟（465mm 尺寸的石墨盘，以径向1mm，角度0.1°测量）；

5. 测量光点尺寸：2mm

6. 光源波长：940nm 或660nm（可选）；

7. 镜漫反射率分辨率：±0.005；镜漫反射率准确度：±0.01；发射率分辨率：±0.01；发射率准确度：±0.02；

8. 系统为离线测量设备，便于石墨盘的装卸。软件操作简单，专为操作员及工程师设计；