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产品简介:该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备,通过模块式化设计后,系统安装方便灵活易于维护,适合科研与教学实验使用。
产品型号 | 三靶高真空磁控镀膜溅射系统 |
主要特点 | 1、组成由单室超高真空双靶磁控溅射室,由溅射真空室与管路组成。 2、配有旁抽系统,启动快不停机即可更换样品,重复性好。 3、用于镀制各种单层膜、多层膜系,可实现单靶独立、双靶轮流、双靶共溅射等溅射模式。 4、同时可以实现反应磁控溅射,制备氮化物,氧化物等,可镀金属及导磁金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜。 5、作为试验设备来说达到了**的性能价格比。 |
技术参数 | 系统由真空腔室、旋转样品架、磁控溅射靶、铠装加热器、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统等各部分组成。 极限真空优于:5.0x10-5Pa(经烘烤除气后) 真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.0x10-4Pa; 停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa 1、 真空室腔体尺寸Ф300x350mm,手动上开盖辅助液压结构,前有一个观察窗,样品台可旋转内部连接铠装加热器、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面采用电解抛光处理。采用金属或氟橡胶圈密封。配备一体机柜标准电箱。 2、磁控溅射靶 靶材尺寸:Φ50mm(其中一个可以溅射磁性材料); 永磁靶一支、强磁靶一支:射频溅射与直流溅射兼容,靶内有水冷;配手动挡板。 2个靶可共同向下面的样品中心溅射,靶与样品距离90~110mm可调。 3、铠装加热样品: 加热区域为Φ100mmX100mm(H),基片加热**温度 室温-600°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制。 配有磁力转轴,电机驱动每分钟低于30转。 |
标准配件 | 1、真空部件 进气角阀:2套; RF100观察窗:1套; 观察窗法兰:RF100 2个; 电阻规: KF16 1个; 电极引线: CF25 1个; 2、工作真空获得及测量: 直联6L/s机械泵: 1台; F600分子泵:1台; 电磁KF20阀:1台; 5227真空计:1台 角阀RF16、管路、接头、充气阀D6等: 1路; KF25电磁压差阀: 1台; CF100闸板阀:1台; 3、相关规格的金属密封铜圈,氟橡胶密封圈 4、不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等 5、安装机台架组件: 安装台架:整个设备安放在一个用承载式标准电箱上,箱体均进行喷塑处理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。 6、电源控制系统 电源布置在标准电箱上,安装于系统机架上。 7、自制电源 控制电源:1台(为机械泵、电磁阀等提供电源及过程控制带逻辑监测); 样品加热电源:1台(日本产控温表可实现程序控温)室温-600°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制。 8、配套电源 真空计电源:1套 直流DC500W电源:2套 流量显示、流量控制器:1套 9、备品备件:1套 |
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