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湿法去胶设备
湿法去胶设备

参考价格

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型号

湿法去胶设备

品牌

盛美半导体

产地

美国

样本

暂无
盛美半导体设备(上海)股份有限公司

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第1年

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槽式去胶单元——在槽式单元中使用药液浸泡晶圆,该槽体一次可容纳多片晶圆以提高产能。

单片去胶腔体——将药液喷洒在旋转晶圆表面,更好地独立控制每片晶圆工艺。

主要优势

使用便捷

精确的药液控制

槽式单元预浸泡工艺

药液回收使用可减少成本

优化安全配置

结合先进的晶圆清洗工艺

多层过滤功能


特性和规格

兼容8吋和12吋晶圆

配有浸泡槽体

配有单片去胶腔体,包括:
    a.*多可配至5种药液进行双面清洗工艺
    b.*多可回收2种药液
    c.单片腔体可搭载空间交变相位移兆声波(SAPS)组件
    d.可选配有高压solvent/DIW喷洗


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产品质量

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售后服务

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易用性

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