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实验型卷绕彼膜设备采用磁控溅射及阴极电弧相结合的被膜技术，既满是了对模层致密性要求，又满足了高离化率的要求;立式结构，工件卷绕系统垂直安装在真空室内;多室门设计，明极安装在们门上，可装六套明极源或高子源，开门即可对靶进行维护或更换;设备可一次性进行工件表面处理及镀制多层膜，实现多层膜沉积。适用多种金属或化合物镀膜材料。设备具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、自动化程度高、操作简单灵活、性能稳定、易维护的特点，尤其适用于实验室高校使用，客户可根据自身不同需求选配。
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