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纯化系列 | 脱除杂质ppb | |||||||||||
气体 | 型号 | 纯化工艺 | CH4 | O2 | H2O | H2 | CO | 挥发性酸VA | 挥发性碱VB | 耐熔化合物RC | 可冷凝有机物Corg | 不凝有机物Ncorg |
CO2 | PC | 吸附 (Abs) | ---- | <1 | <1 | <1 | <1 | <0.005 | <0.5 | <0.005 | <0.15 | <1 |
PCO | 催化+吸附（Cat+Abs） | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 | <0.005 | <0.5 | <0.005 | <0.15 | <1 | |
应用领域：
纯化用于半导体应用的二氧化碳
工艺介绍：
PC系列采用HPC特有纯化材料，通过吸附工序，深度脱除气体中的。上表中杂质O2、H2O、H2、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质。多个吸附器交替吸附、再生，实现对原料气体的连续纯化。
PC系列独立气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脱除CO2中的污染杂质，满足客户现场需求.
PCO系列气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH4、还原性杂质与O2反应转化为H2O和CO2；
气体通过多柱吸附工序深度脱除气体中的CH4、O2、H2O、H2、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质；
吸附柱饱和后可通还原性气体加热再生，反复使用；
多柱交替吸附、再生，可实现对气体的连续纯化。
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