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AW-QP系列单片式等离子去胶机
AW-QP系列单片式等离子去胶机

参考价格

面议

型号

AW-QP系列单片式等离子去胶机

品牌

奥威赢

产地

江苏

样本

暂无
无锡奥威赢科技有限公司

高级会员

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第1年

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生产商

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设备用途

高性能的单片去胶(打胶),主要应用于 4、6、8 英寸直径的半导体单片去胶、等离子表面清洗、扫底膜工艺等。

主要应用领域包括:芯片制造、MEMS、太阳能电池、化合物产业(GaAs、GaN、GaP、InP、SiC 等)、光电产业等,主要应用工艺包括:去胶、可控光刻胶去除(刻蚀前扫底膜)、GaAs、InP 晶片去胶及扫底膜等。

产品参数

产品型号AW-QP600
外形尺寸(不含报警灯塔)L1200×W1500×H1750(mm)
反应仓材质石英+6061铝合金
等离子体发生器频率13.56MHz,功率0-600W可调,自动阻抗匹配
去胶圆片尺寸4寸、6寸、8寸
去胶速率300-1500A/min
温度控制30~160℃、±3 ℃
产能及碎片率单腔45~60片/小时,≤1/1000
真空系统油泵/干泵可选,进口气动角阀、充气阀,高精度真空计
气路系统MFC质量流量计控制(标准配置2路):5SLMO₂和1SLM N
控制系统触摸式工控机+PLC控制
备注可按客户需求弹性设计/多腔设计


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产品质量

10分

售后服务

10分

易用性

10分

性价比

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