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【纳米颗粒制备技术】干法气溶胶纳米打印技术,加速材料研发进程

【纳米颗粒制备技术】干法气溶胶纳米打印技术,加速材料研发进程
复纳科技  2024-05-15  |  阅读:564

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增材制造的方法,如纳米打印可以大大简化高比表面积的纳米多孔薄膜的制备工艺。这种薄膜材料的应用很多,包括电催化、化学、光学或生物传感以及电池和微电子产品制造等。

 

因此,一种基于气溶胶的直写方法能够实现具有独特性能的无机纳米结构材料的打印直写。

 

印刷涂层的颗粒由 纳米粒子发生器产生,经火花烧蚀产生的气溶胶颗粒其典型粒径在 20nm 以下,且不含表面活性剂或任何其他有机添加物质。纳米粒子生产和印刷沉积的整个过程是完全自动化的,不需要进行后续有机成分的热处理去除。

 

 纳米印刷沉积系统

 

工作原理

 

VSP-G1 纳米粒子发生器 (VSP-G1) 作为纳米粒子的生产源,集成在 VSP-P1 系统中。而用于纳米颗粒生产的技术称为火花烧蚀(Spark Ablation),在室温温度和大气压条件下便可实现多种纳米粒子的制备。

 

在气流中产生纳米气溶胶后,这些颗粒经低真空环境下的喷嘴加速并通过撞击沉积的方式沉积在多种类型的基材上。沉积的驱动力是沉积室和 VSP-G1 系统(喷嘴上游)之间的压力差。通过 XYZ 载物台控制、显微镜摄像头模块和直观的用户界面可以打印沉积特定的路径,从而可以控制实验参数,进行完全由纳米粒子组成的图案绘制。

 

 




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