微纳米硅化钼粉

技术参数

主要特点

微纳米二硅化钼粉通过可变电流激光离子束气相法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，是一种工程材料，MoSi2=152.12，密度6.26 g/ cm3，熔点2030℃，具有导电性，在高温下表面能形成二氧化硅钝化层以阻止进一步氧化，MoSi2是Mo-Si二元合金系中含硅量高的一种中间相，具有金属与陶瓷的双重特性。二硅化钼有良好的高温抗氧化性、高温可塑性、导热导电性和流动性，在高温结构陶瓷领域有着应用
应用领域
二硅化钼主要应用作发热元件、集成电路、高温抗氧化涂层及高温结构材料； 
二硅化钼作为结构材料用于航空、航天、汽车燃气涡轮机的高温部件。
技术支持
可以提供微纳米二硅化钼粉在发热元件、高温氧化涂层、复合材料中的应用技术支持，具体应用咨询请与销售部人员联系。
包装储存
本品为抽真空包装，应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果。