英国Quorum出品的CryoSEM扫描电镜冷冻台、离子溅射镀膜仪、蒸发镀碳仪、热蒸发镀膜仪、临界点干燥仪、冷冻干燥仪、等离子清洁刻蚀灰化仪等系列产品，作为世界**电镜制样设备，在电子显微镜(扫描电镜/透射电镜)的样品制备领域中应用非常广泛。

产品主要分类及型号如下：

Sputter Coating Systems

磁控离子溅射镀膜仪(可镀金、铂、铱、铬、铝...用于钨灯丝电镜、场发射电镜、扫描探针以及材料科研等领域)

型号及简述：

SC7620紧凑型离子溅射镀膜仪（喷金仪）：普通机械泵抽真空，模拟控制，具有Glow discharge辉光放电处理功能。可选喷碳附件实现喷金/喷碳两个用途 ；

Q150R S离子溅射镀膜仪：机械泵抽真空系统，CPU程序全自动控制，触膜屏用户界面，可镀多种贵金属膜材，也可镀相对较厚的膜；可选配辉光放电处理单元

Q150T S高分辨率离子溅射镀膜仪：蜗轮泵高真空系统，CPU程序全自动控制，触膜屏用户界面，设有自动挡板和靶材预清洁程序，不但可镀多种贵金属膜材，也可镀多种易氧化金属膜材；可镀相对较厚的膜；可选配辉光放电处理单元

Q300QQQ300R T大腔室、多功能离子溅射镀膜仪：三靶大面积溅射系统之旋转机械泵版本，CPU程序全自动控制，触膜屏用户界面，适合不氧化的贵金属如金（Au）、铂（Pt）等靶材大面积镀膜

Q300T T大腔室、多功能、高真空离子溅射镀膜仪：三靶大面积溅射系统之高分辨涡轮泵版本，CPU程序全自动控制，触膜屏用户界面，标配有自动挡板和靶材预清洁程序，既适合贵金属、也适合易氧化金属等靶材大面积镀膜

Q300T D大腔室、多功能、高真空双头离子溅射镀膜仪：涡轮泵高真空系统，CPU程序自动控制，触膜屏用户界面，大腔室，双溅射镀膜头，可自动顺序溅射两层不同的成膜材料；标配有自动挡板和靶材预清洁程序，既适合贵金属、也适合易氧化金属等靶材单层镀膜、双层或多层依次镀膜。

Carbon Coating and Evaporation Systems

镀碳仪和蒸镀仪（蒸镀碳及金属）

型号及简述：

K975X/K975XS多用途高真空蒸发镀膜仪：涡轮泵抽真空系统，CPU程序自动控制，LCD显示屏，既可热蒸发镀碳，也可用热蒸发方式蒸镀多种金属等膜材；可选配离子溅射模块、低角度阴影组件、双源蒸发模块等多种功能模块

Q150R E碳蒸镀仪：机械泵抽真空系统，CPU程序自动控制，触膜屏用户界面，标配碳丝/碳绳头，可蒸镀碳导电膜

Q150T E高真空热蒸发镀膜仪：涡轮泵抽真空系统，CPU程序自动控制，触膜屏用户界面；标配碳棒头，可蒸镀碳；可选蒸镀金属等多种膜材（向上蒸镀、向下蒸镀两种方式），亦可使用钼舟实现对电镜光阑的清洁处理（烧光阑）

Coater with both Sputtering and Evaporation Systems

离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪

型号及简述：

Q150R ES离子溅射/碳蒸发一体化镀膜仪：机械泵抽真空系统，CPU程序自动控制，触膜屏用户界面，集成了离子溅射和碳蒸镀两种沉积功能的镀膜仪（兼具喷金仪/喷碳仪两台仪器的功能）；具有智能逻辑自动识别系统

Q150T ES高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪：蜗轮泵抽真空系统，CPU程序自动控制，触膜屏用户界面，集成了高分辨离子溅射和热蒸镀两种沉积功能的镀膜仪（兼具高分辨溅射仪/高真空蒸镀仪两台仪器的功能）；具有智能逻辑自动识别系统

Freeze Driers(Peltier/LN2 Cooled )

冷冻干燥仪(Peltier电制冷/液氮制冷)

型号：K750X，K775X...

Critical Point Driers（CPD）

临界点干燥仪

型号：垂直腔室:K850，K850WM；水平腔室:E3000/E3100

RF Plasma (Ashing/Etching) Units

射频等离子刻蚀单元（清洁、灰化）

型号：K1050X，K1050XT

Cryogenic Systems for Electron Microscopes （CryoSEM）

扫描电镜冷冻制备传输系统（扫描电镜冷冻台），可将普通SEM或场发射SEM改造成能直接观察含水样品（无需脱水干燥）的低温冷冻扫描电镜！

型号：K1250X，PP2000，PP2000T，PP3000T

ESEM / VP Cooling Stage

环扫/可变真空 扫描电镜冷台（扫描电镜小冷台）

型号：K25X

技术参数：详细技术参数见各型号的样本资料，或访问：查看详细参数。也可来电咨询：025-85432178，85432278