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仪器简介
Janis SHI-4系列低温恒温器种类齐全,能够满足各种实验对样品冷却的要求,既能配备可相互交换的光学选件,也可提供各类电学真空接头。真空罩上的内螺纹孔和结实的法兰使得该系统可以在任何方向上安装。这些低温恒温器**工作温度既可以设计为325K,也可选项设计达到500K或800K(配有专门的低温传感器)。
SHI-4系列制冷机标准型号包括("x"表示制冷机的制冷能力)
SHI-4-x (光学)
SHI-4T-x (非光学)
SHI-4S-x (超级紧凑)
SHI-4XG-x (低振动)
SHI-4H-X (高温)
CCR4-MMP (无制冷剂探针台)
SHI-4XG专门为要求振动极小的应用场合设计,冷头与样品之间无机械性连接,由交换气体提供热接触,而冷头单独支撑。由于冷头便于拆除烘烤,所以该设计可以应用于真正的超高真空系统。
配置以及选件
标准配置 | 可选配置 |
光学真空外罩和防辐射屏 | 增加电学真空接头(BNC,SMA,多针及其它) |
4个O圈密封的石英窗口 | 旋转真空外罩 |
镀金无氧铜样品托 | 旋转台和定位台 |
10针电学真空接头, 三个预留电学端口 | 基质隔离结构 |
抽真空阀和安全减压阀 | 增加第五个窗口 |
硅二极管温度计和加热器 | 防热辐射窗 |
红外窗口材料或其它 | |
用户定制真空罩 | |
大多数型号可选配500K和800K高温系统 | |
非光学配置 | |
紧凑型真空罩(与电磁铁配合使用) | |
更大体积样品 |
规格参数
规格参数 | SHI-4-1 | SHI-4-5 | SHI-4 | SHI-4-15 |
温度范围 | <5 K to 325 K | <4.5 K to 325 K | <4 K to 325 K | <4 K to 325 K |
初始降温时间 | <120min to 5 K | <70min to 4.5 K | <60min to 4 K | <60min to 4 K |
冷头制冷能力 | 0.1 W @ 4.2 K | 0.5 W @ 4.2 K | 1 W @ 4.2 K | 1.5 W @ 4.2 K |
恒温器质量 | 36 lbs. | 53 lbs. | 62 lbs. | 63 lbs. |
压缩机冷却方式 | 风冷 | 水冷 | 风冷或水冷 | 风冷或水冷 |
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