上海研倍新材料 专业生产定制 各类靶材 合金靶材

1、产品信息   

2、产品规格

定制

3、产品概述

TiSi 钛硅靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）等薄膜沉积技术的材料。它通常用于制备具有特殊功能的薄膜材料，例如用于光学涂层、电子器件和传感器等领域。

TiSi 钛硅靶材具有优异的物理和化学性能，包括高熔点、良好的导热性和化学稳定性。这使得它在高温环境下能够提供稳定的性能，并且在薄膜沉积过程中能够保持较高的沉积速率和均匀性。

4、产品用途

光学涂层：TiSi 钛硅靶材可用于制备具有特殊光学性能的薄膜材料，如反射镜、透镜和光学滤波器等，以满足光学器件对于反射率、透射率和波长选择性的要求。

电子器件：TiSi 钛硅靶材可用于制备半导体器件、光电子器件和显示器件的薄膜材料，以提高其导电性、光学性能和稳定性。

传感器：TiSi 钛硅靶材可用于制备传感器的薄膜材料，如压力传感器、温度传感器和化学传感器等，以提高其灵敏度和稳定性。

表面涂层：TiSi 钛硅靶材可用于制备具有特殊表面性能的涂层，如耐磨涂层、防腐蚀涂层和陶瓷涂层等，以提高材料的耐用性和功能性。