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碳纤维毡表面磁控溅射纳米铜薄膜的工艺优化

编号:NMJS05189

篇名:碳纤维毡表面磁控溅射纳米铜薄膜的工艺优化

作者:赵晓曼; 王鸿博;

关键词:碳纤维毡; 纳米铜薄膜; 磁控溅射; 工艺优化; 电磁屏蔽;

机构: 生态纺织教育部重点实验室(江南大学);

摘要: 以碳纤维毡为基材,优化了采用磁控溅射技术在其表面沉积纳米铜薄膜的工艺参数。运用正交试验分析方法,选取沉积时间、溅射功率和工作压强3个参数为因素,分析了各因素对碳纤维毡的电磁屏蔽效能和导电性能的影响。实验表明:磁控溅射铜薄膜后,碳纤维毡的电磁屏蔽效能提高了116.25%,导电性能提高了45.81%。;碳纤维毡表面溅射沉积铜薄膜的最佳工艺方案为:沉积时间50min,工作压强0.4Pa,溅射功率80W。

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