编号：FTJS05826
篇名：CTAB-乙烯基修饰合成二氧化硅膜及CH4/CO2的分离
作者：张志刚[1] ;郑立娇[1] ;李丹丹[1] ;李文秀[1]
关键词：溶胶修饰 模板剂 气体分离
机构： [1]沈阳化工大学辽宁省化工分离技术重点实验室,辽宁沈阳110142
摘要： 以乙烯基三乙氧基硅烷（A-151）和正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体,十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为有机模板剂,在酸性条件下通过溶胶-凝胶法制备疏水性SiO2膜,采用IR、XRD、SEM等对膜材料进行表征,并通过激光粒度分析仪对不同醇酯比的溶胶粒径分布进行测试.结果表明：疏水基团已成功修饰到SiO2材料中,加入一定量CTAB后,膜材料具有良好的CH4、CO2气体渗透性能,压差20 kPa时,CH4/CO2气体的分离因子接近2.27,高于Knudsen扩散理想分离因子1.66,表明膜材料具有一定的分子筛效应.
