编号：CPJS03960
篇名：具有稳定显气孔率和渗透通量的氧化铝膜基片制备工艺优化
作者：丁文秀[1] ;周健儿[1] ;胡学兵[1] ;汪永清[1] ;巫春荣[1]
关键词：膜基片 干压成型法 制备工艺 显气孔率 渗透通量
机构： [1]景德镇陶瓷学院、江西省高等学校无机膜重点实验室,江西景德镇333001
摘要： 氧化铝膜基片是制备具有高性能,如高分离效率、高离子截留率的改性膜的重要基础,而氧化铝膜基片的显气孔率和渗透通量对改性膜的上述性能具有重要的影响。因此,要得到高性能的改性膜,则须选用显气孔率和渗透通量稳定的氧化铝膜基片。本实验采用平均粒径为1.6μm的α-Al2O3微粒为主要原料,以聚乙烯醇为添加剂,采用干压成型法,制备了氧化铝膜基片。实验考察了成型压力、烧成温度和PVA用量等参数对氧化铝膜基片显气孔率和渗透通量的影响规律,并对其孔径和显微结构进行测试分析。实验结果表明：当成型压力为10 MPa、烧成温度为1230℃、PVA用量为0.83wt.%时,可制得显气孔率稳定在42%、渗透通量稳定在215 l·m-2·h-1·bar-1、中位孔径约为380 nm、显微结构较均一的氧化铝膜基片,从而为后期制备高性能的改性膜提供了工艺基础。
