编号：CPJS03961
篇名：镍掺杂SiO2膜的制备及CH4／CO2气体分离性能
作者：李文秀[1] ;李丹丹[1] ;郑立娇[1] ;范俊刚[1] ;张志刚[1]
关键词：二氧化硅膜 镍掺杂 水热稳定性 气体分离 孔结构
机构： [1]沈阳化工大学辽宁省化工分离技术重点实验室,沈阳110142
摘要： 以正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体，六水合硝酸镍（Ni（N03）2·6H20）为镍源，采用溶胶一凝胶法制备镍掺杂si02膜。研究了水用量及镍含量对镍掺杂Si02膜的结构及形貌的影响，并对其进行CH4、CO2气体渗透性能测试。结果表明：水酯比为5．5时，制备的10％Ni掺杂Si02膜具有良好的微孔结构，且孔径约为1．16nm，孔隙率为64．9％。一部分Ni元素以Ni和NiO晶体形式填充于si02孔道内，另一部分以si-0-Ni形式进入SiOz骨架。Ni掺杂SiO2膜在84h内能够保持良好的气体渗透性能，表现出比纯SiOz膜更好的水热稳定性。CHt和c02的气体渗透通量分别为1．56×10-7和0．64×10-7mol／（m2·S·Pa），CH4／c02气体分离因子达到2．43。
