编号：FTJS06688
篇名：单分散纳米二氧化硅的可控制备以及高浓度正硅酸乙酯条件下的反应机理
作者：赵立强[1,2] ;南泉[2] ;金花子[2]
关键词：Stober法 纳米二氧化硅 单分散 制备机理
机构： [1]青岛科技大学化学与分子工程学院,山东青岛261500; [2]中国科学院金属研究所表面工程研究部,辽宁沈阳110106
摘要： 采用Stober法,在60℃,正硅酸乙酯（TEOS）浓度为1mol·L^-1的条件下制备得到粒径为55nm的SiO2,多分散指数（Polydispersity Index,PDI）为0.05,显示了良好的单分散性,找到了一种在高TEOS浓度、高温条件下制备单分散纳米SiO2的方法,并探讨了制备机理。同时还研究了TEOS、水和NH3·H2O浓度以及反应温度对产物颗粒粒径及其分布的影响。
