编号：CYYJ01901
篇名：氧化铝抛光液对铝合金化学机械抛光性能的研究(英文)
作者：张泽芳 张文娟 张善端 李富友
关键词： 铝合金 氧化铝抛光液 化学机械抛光 光泽度 材料去除率
机构： 复旦大学先进照明技术教育部工程研究中心 复旦大学电光源研究所 南京映智新材料有限公司 临汾博利士纳米材料有限公司 复旦大学化学系高分子材料分子工程国家重点实验室
摘要： 化学机械抛光(CMP)已成为金属合金最具潜力的平坦化技术.为了优化铝合金CMP工艺,研究了磨料粒度、分散剂浓度以及pH调节剂对铝合金CMP性能的影响.结果表明:随着磨料粒度的增加,材料去除率(MRR)和平均表面粗糙度(Ra)均增加,而表面光泽度(Gs)降低.分散剂(聚乙二醇,PEG-600)的质量分数达到0.5%时,可以获得最优的表面质量和最佳的光泽度.浆料中添加适量的柠檬酸作为pH调节剂可同时获得较优的表面质量和较高的抛光效率,柠檬酸对铝合金CMP性能的影响是腐蚀作用和螯合作用的综合效应.此外,简要讨论了氧化铝抛光液对铝合金的静态刻蚀机理和CMP机理.氧化铝抛光液的最优配方为Al2O3 3.3μm、H2O2 4%、PEG-600 0.5%和H3Cit 1.5%.
