资料中心

共晶铝硅合金恒流微弧氧化成膜工艺优化

编号:FTJS08204

篇名:共晶铝硅合金恒流微弧氧化成膜工艺优化

作者:李康 祝闻 易爱华 廖忠淼 李文芳 陈肯 叶韫 洪楚章 杨焱

关键词: 共晶铝硅合金 微弧氧化 正交优化 耐蚀性 沉积速率 能耗

机构: 东莞理工学院材料科学与工程学院

摘要: 采用恒流氧化模式对二元共晶Al-Si合金进行微弧氧化(MAO)处理。在碱性电解液体系中,以Na_(2)SiO_(3)和C6H12N4(六次甲基四胺)质量浓度、电流密度、脉冲频率和占空比为优化对象,以膜层的耐腐蚀性能、生长速率及成膜的单位能耗同时作为评价指标,通过正交试验得到以下最优成膜工艺:电解液由12 g/L Na_(2)SiO_(3)、2 g/L NaOH和5 g/LC_(6)H_(12)N_(4)组成,正、负向电流密度分别为10 A/dm^(2)和4 A/dm^(2),脉冲频率400 Hz、占空比25%,单个周期的正负脉冲数之比为1。该工艺显著降低了Si相对共晶铝硅合金上MAO的不利影响。

最新资料
下载排行

关于我们 - 服务项目 - 版权声明 - 友情链接 - 会员体系 - 广告服务 - 联系我们 - 加入我们 - 用户反馈