编号：CYYJ02312
篇名：硅通孔抛光液的研究进展
作者：郑晴平 王如 吴彤熙
关键词： 硅通孔(TSV) 化学机械抛光(CMP) 抛光液 抛光速率 抛光质量
机构： 河北工业大学电子信息工程学院 河北工业大学微电子技术与材料研究所
摘要： 硅通孔(TSV)技术是一种先进的封装技术,化学机械抛光(CMP)是集成电路TSV制作过程中的重要步骤之一,是可兼顾材料表面局部和全局平坦化的技术。抛光液是影响抛光表面质量和加工效率的关键因素,是CMP工艺中消耗品成本最大的部分。TSV抛光液主要包括铜膜抛光液和阻挡层抛光液,依据抛光速率和抛光质量(表面粗糙度、碟形坑修正等)的要求对其进行了分类讨论,概述了近年来TSV抛光液的研究进展,对其今后的研究重点和发展趋势进行了分析和预测,认为TSV抛光液应朝着抛光速率和抛光质量的优化、低成本、环境友好的方向发展。
