编号：FTJS08848
篇名：湿法球磨工艺对CeO2粒度分布及抛光性能的影响
作者：张笑寒 陈向辉 杨军 赵东 裴文利 徐民
关键词： CeO2 抛光 球磨 粒度分布
机构： 东北大学材料科学与工程学院 德米特（苏州）电子环保材料有限公司
摘要： 抛光粉粒度与其抛光性能有密切关系,然而粒度相同的抛光粉,粒度分布的不同对其抛光性能也具有重要影响。为了探究粒度分布对抛光性能的影响,以粒径较大的CeO2粉为原料,使用不同球磨设备对CeO2粉进行细化,设置不同的球磨工艺参数并添加不同的助剂,获得中位粒径D50=1μm,具有不同粒度分布的CeO2料液,添加一定量分散剂调配成固含量10%(质量分数)的抛光液。用9B双面抛光机对K9玻璃进行抛光,记录玻璃单位时间质量减少量,并利用原子力显微镜测量抛光表面粗糙度。结果表明,设置不同的球磨工艺可以对CeO2粒径分布进行调控,CeO2粒度分布较窄时,具有较高的抛光去除率MRR,粒度分布适中时,兼具抛光效率与表面质量。使用行星式搅拌球磨机,选用直径为3mm的磨珠、球料比为5∶1,抛光机转速为30rpm,浆液流速为30rpm、并在球磨介质中添加质量比为0.1%的聚丙烯酸钠作为助剂时,可获得最低的表面粗糙度Ra=0.849nm。
