编号：FTJS09715
篇名：湿法刻蚀对背钝化多晶电池的影响
作者：郭卫 李雪方 申开愉
关键词： 绒面 减重量 反射率
机构： 山西潞安太阳能科技有限责任公司
摘要： 背钝化多晶电池工艺中通常使用各种化学品,采用链式设备对硅片进行清洗、制绒等处理,以达到后续的外观、洁净度等工艺要求。背钝化多晶电池生产中,需要对多晶硅片进行多次化学品处理。多晶制绒工艺在生产顺序的上游完成,接着再进行背面钝化、清洗等工艺时,如果多晶硅片正面没有进行有效保护,就会对多晶硅片的绒面结构造成破坏,不仅影响成品电池片正面外观,同时也影响电池片转换效率和质量检测。本文优化了原有的旧制绒工艺,通过改变不同刻蚀工艺时的化学品配比、减重量、反射率等,既可以对硅片进行有效清洗,同时也能避免对硅片外观造成破坏,调试出了适合背钝化多晶电池湿法刻蚀处理的工艺流程与控制参数。
