编号：FTJS09917
篇名：高端电子制程中钴化学机械抛光剂的研究进展(Ⅱ)──配位剂、抑制剂、磨料及其他
作者：段欣雨 万传云 吴兆键 张玫姣 倪哲易
关键词： 钴 化学机械抛光 抛光液 配位剂 抑制剂 磨料 综述
机构： 上海应用技术大学化学与环境工程学院
摘要： 综述了Co作为高密度集成路电子制程的阻挡层及互连材料时,化学机械抛光液中常用配位剂、抑制剂、磨料及其他成分的研究进展和作用机制,展望了Co化学机械抛光液的发展。
