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GaN晶片电化学腐蚀表面摩擦磨损特性

编号:CYYJ03585

篇名:GaN晶片电化学腐蚀表面摩擦磨损特性

作者:严杰文 阎秋生 潘继生

关键词: GaN晶片 电化学 腐蚀 摩擦磨损 摩擦因数 微观形貌

机构: 广东工业大学机电工程学院 广州计量检测技术研究院

摘要: GaN晶片是化学性质稳定的半导体材料,电化学作用可以有效地腐蚀GaN晶片表面,通过选择不同的电化学腐蚀电解质溶液和不同的腐蚀电位,可以调控晶片表面的电化学腐蚀效果。为了更好地理解电化学机械抛光对GaN晶片表面的材料去除机理,研究了电化学腐蚀的GaN晶片表面的磨损特性。将4英寸GaN晶片激光切割成10 mm×10 mm的正方形尺寸利用平面磨床将Ga晶片表面均匀研磨至相同的表面粗糙度,然后将研磨后的GaN晶片在不同的电化学腐蚀条件下进行电化学腐蚀。腐蚀实验中,电解液(NaOHNa2S2O8H3PO4)选取腐蚀电位(10 V20 V30 V)进行GaN表面的电化学腐蚀.

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