编号：CPJS00718
篇名：PI掺杂多孔SiO_2薄膜的制备及性能研究进展
作者：张学艳; 王伟伟; 柳清菊;
关键词：多孔SiO2; 聚酰亚胺; 薄膜; 制备; 性能;
机构： 云南大学云南省高校纳米材料与技术重点实验室;
摘要： 近年来对掺杂纳米SiO2的聚酰亚胺薄膜的各种性能进行了充分的研究,而对以少量PI掺杂的多孔SiO2薄膜的研究较少。介绍了PI掺杂多孔SiO2薄膜制备过程中影响薄膜性能及应用的两个关键因素(相分离和热处理固化成膜),理论分析了PI掺杂多孔SiO2薄膜的力学性能和绝热性能,最后讨论了目前存在的一些问题和今后的发展趋势。
