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等离子喷涂-化学气相沉积制备α/β-Bi2O3薄膜的相结构调控和光催化降解性能

编号:NMJS08932

篇名:等离子喷涂-化学气相沉积制备α/β-Bi2O3薄膜的相结构调控和光催化降解性能

作者:王振宇 刘燕才 陈琨 乔江浩 李晓伟

关键词: 氧化铋 薄膜 等离子喷涂 化学气相沉积 光 催化降解

机构: 中国矿业大学材料与物理学院

摘要: 采用等离子喷涂?化学气相沉积法制备Bi2O3薄膜,并研究了沉积温度和热处理温度对于Bi2O3薄膜形貌和成分的影响。用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射仪、高分辨率透射电子显微镜对该薄膜形貌和成分进行了表征,通过紫外-可见光漫反射光谱仪研究了不同热处理温度下α/β-Bi2O3禁带宽度的变化。结果表明:沉积温度和热处理温度影响Bi2O3薄膜的微观形貌,同时影响α和β两相的相比例,但沉积温度的影响显著大于热处理温度;随着热处理温度升高,β相转化为α相的比例越来越高,α-Bi2O3和β-Bi2O3的禁带宽度都有所增加;最后,通过对甲基橙和双酚A的降解证明了Bi2O3薄膜具有良好的光催化降解性能。

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