编号：FTJS10464
篇名：Y3+掺杂二氧化硅磨料的合成及其在氧化锆陶瓷中的化学机械抛光行为
作者：代三威 雷红 付继芳
关键词： 氧化锆陶瓷 化学机械抛光 磨料 掺杂二氧化硅 Derjaguin-Landau-Verwey-Overbeek理论
机构： 上海大学材料科学与工程学院 上海大学理学院
摘要： 为提高氧化锆陶瓷的抛光效率，在二氧化硅表面掺杂 Y3 + wes 以制备改性磨料。 X 射线光电子发射能谱分析显示改性磨料中含有 Y 元素，其形式为 Y (OH)3。扫描电子显微镜(SEM)和粒度分析结果表明，复合材料磨料为球形，粒度均匀，无聚集和二次颗粒出现。与纯硅胶磨料相比，复合磨料的材料去除率(MRR)提高了约33% 。它还改变了二氧化硅颗粒的 Zet 电位，减少了二氧化硅和锆陶瓷表面之间的排斥力。这增加了二氧化硅和氧化锆陶瓷片之间的接触概率，导致摩擦系数的增加。
