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GH4169合金低温渗硼层结构与耐磨性能研究

编号:CYYJ043148

篇名:GH4169合金低温渗硼层结构与耐磨性能研究

作者:官磊 邵孟雪 胡晨阳 陈树群

关键词: 高温合金 低温硼化 催渗剂 磨损机制

机构: 中国航发北京航空材料研究院 北京工业大学材料科学与工程学院

摘要: GH4169合金因具有良好的高温强度及耐腐蚀性等,在航空航天领域应用广泛,但其也存在表面硬度低、耐磨性差的问题。固相渗硼是提高GH4169合金耐磨性能的有效手段,但常用渗硼工艺普遍采用900℃以上高温,这会破坏合金时效处理所得到的析出相结构。本实验将GH4169合金热处理时效过程与渗硼过程相统一,通过引入ZrO2作为新型催渗剂获得了厚度约8.2μm的致密渗硼层。分析发现渗硼层由Cr5B3、Cr2B、Ni2B和FexNi23-xB6复合相组成,表面硬度高达2622.9 HV0.1,并在与氮化硅球对磨时呈现出极低的磨损率值,即8.5×10-6mm3/(N·m)。

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