编号：CPJS00817
篇名：羟基硅油原位改性制备疏水性沉淀二氧化硅
作者：马志领; 郝学辉; 何佳音; 周健;
关键词：沉淀二氧化硅; 羟基硅油; 原位改性; 疏水性; 相容性;
机构： 河北大学化学与环境科学学院;
摘要： 采用羟基硅油原位改性制备疏水性沉淀二氧化硅。红外光谱(FT-IR)分析表明,羟基硅油通过化学键接枝到二氧化硅表面。扫描电镜(SEM)分析表明,原位改性改善了沉淀二氧化硅的团聚现象,使之分散性提高,与有机基体聚丙烯树脂的相容性增大。疏水性测试表明,羟基硅油203-B和203-D的用量(羟基硅油与原料中二氧化硅的质量比)达到17.9%时,疏水度分别达到24.59%和22.17%,羟基硅油相对分子质量越小,羟基含量越高,改性效果越明显。原位改性使沉淀二氧化硅吸油率降低。
