编号：NMJS01050
篇名：TiO_2纳米孔结构的XPS研究
作者：顾剑锋; 闻明; 刘刚; 吕坚;
关键词：SMAT; 纳米Ti; XPS逐层分析;
机构： 上海交通大学上海市激光制造与材料改性重点实验室; 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家实验室; 香港理工大学;
摘要： 采用表面机械研磨处理技术(Surface mechanical attrition treatment,SMAT)在工业纯Ti的表面制备出一层厚度约30μm纳米结构表层,最表层的平均晶粒尺寸约30nm。随后在常温(25℃)下对其进行双氧水及400℃煅烧处理,并采用X射线光电子能谱(XPS)等手段进行了逐层结构分析。结果表明,SMAT Ti表面与粗晶Ti表层形成的氧化层结构存在明显差别。
