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溅射的Ti薄膜热氧化形成的TiO2薄膜与p+-Si形成的异质结的电致发光

编号:FTJS01682

篇名:溅射的Ti薄膜热氧化形成的TiO2薄膜与p+-Si形成的异质结的电致发光

作者: 张安邦; 马向阳; 金璐; 杨德仁;

关键词:二氧化钛; 硅; 异质结; 电致发光;

机构: 浙江大学硅材料国家重点实验室;

摘要: 利阿太磁控溅射法以不同条件在重掺硼硅片(p+-Si)上制备Ti薄膜,经过一定条件下的热氧化转化为TiO2薄膜,从而形成TiO2/p+ -Si异质结。研究表明:要使TiO2/p+ -Si异质结产生显著的电致发光,其中的TiO2薄膜必须呈现单一的锐钛矿相,这就要求在较低的功率下溅射获得晶粒尺寸较小的Ti薄膜。此外,TiO2的薄膜厚度需要控制在合理的范围。文中对上述结果的物理机制进行了探讨。 更多还原

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