编号：FTJS00131
篇名：Si3N4粉体表面分析及偶联剂作用量的选择
作者：颜鲁婷 司文捷等
关键词：Si3N4粉体 表面分析 偶联剂 作用量 氧化 水解 氮化硅 结构陶瓷
机构： 清华大学材料系新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室，北京100084
摘要： 在Si3N4的粉体的生产和存储过程中，氧化和水解是两个不利的因素，但在偶联剂的作用下，它们在提高陶瓷粉体与有机载体的相容性方面起到了促进作用。本文测定了未经处理的Si3N4粉及通过氧化和水解改性的Si3N4粉的表面性质，并分析了它们对偶联剂选择作用量的影响。
出处：无机材料学报.2002,17(5).-973-978
