资料中心

用磁控溅射法制备纳米膜防辐射布的工艺探讨

编号:NMJS01948

篇名:用磁控溅射法制备纳米膜防辐射布的工艺探讨

作者:叶毓辉; 杨志敏; 何玉兰;

关键词:磁控溅射; 纳米膜; 防辐射布; 工艺;

机构: 深圳市计量质量检测研究院;

摘要: 利用磁控溅射技术在涤纶无纺布表面沉积纳米结构银薄膜,以制得防辐射布。探讨了靶基距、溅射功率、工作气压和进气量等工艺条件对薄膜屏蔽效能的影响。结果表明在时间规定条件下,对屏蔽效能影响大小的排序是:工作气压>靶基距>进气量>溅射功率。

最新资料
下载排行

关于我们 - 服务项目 - 版权声明 - 友情链接 - 会员体系 - 广告服务 - 联系我们 - 加入我们 - 用户反馈