编号：NMJS02158
篇名：利用小角X射线散射技术研究组分对聚酰亚胺/Al_2O_3杂化薄膜界面特性与分形特征的影响
作者：刘晓旭； 殷景华； 程伟东； 卜文斌； 范勇； 吴忠华；
关键词：小角X射线散射； 纳米杂化； 聚酰亚胺； 界面；
机构： 哈尔滨理工大学应用科学学院； 黑龙江科技学院实训中心； 工程电介质及其应用技术教育部重点实验室； 中国科学院高能物理研究所同步辐射室；
摘要： 采用溶胶-凝胶方法制备无机纳米杂化聚酰亚胺(PI),应用同步辐射小角X射线散射(SAXS)方法研究不同组分杂化PI薄膜的界面特性与分形特征.研究结果表明散射曲线不遵守Porod定理,形成负偏离,说明薄膜中有机相与Al2O3纳米颗粒间存在界面层,界面层厚度在0.54nm到1.48nm范围内;随无机纳米组分增加,界面层厚度增加,有机相与无机相作用变强;无机纳米颗粒同时具有质量分形和表面分形特征,其分布、集结是一种非线性动力学过程;随组分增加,其质量分形维数降低,表面分形维数升高,即纳米颗粒结构变疏松、质量分布变得不均匀,有机高分子链对无机纳米颗粒锚定作用加强且锚点数增加,表面变得更加粗糙.最后,利用逾渗理论与介质的电极化理论,结合杂化PI界面特性,解析了组分对杂化薄膜击穿场强的影响.
