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脉冲等离子PulsPlasma®系统包括真空炉室,辅助加热系统,保温系统,温度测量系统,炉室开关系统,工艺气体循环系统,冷却系统,工艺控制系统以及离子发生器系统。这其中的离子发生器系统是普发拓普公司的**设计,可以完全避免打弧现象的发生而且节能效果明显。炉体卧式设计,适合处理大型零件的处理。根据设备的大小,加热控制区至少配有三组独立控制升温和降温的加热器,通过这些独立控制的加热器获得**的均温性。
工艺特点:
通过热壁技术实现良好的均温性
能源有效利用,工艺气体消耗少,无污染气体
灵活的渗氮温度,温度范围 300 ℃ - 600 ℃
白亮层可控
可处理不锈钢
可处理烧结钢
可处理钛合金
可处理高合金钢
设备特点:
不产生打弧,工件表面无破坏
全自动工艺控制,工件内部测温
台车式装载系统,多达40吨的装载量
独特的加热和控制系统,至少3区独立的加热和冷却区域
控制区温度均匀分布
独有的PulsPlasma®电源,电压和电流近乎方波,几微妙内获得
设定的全部脉冲电流,主动抑制打弧监测(开关时间< 0.1 µs)
电源可升级至5年质保
可在低温下对工件表面进行等离子清洗
航天保温材料,热容量低,功率损耗低,节省重量
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