参考价格
10-20万元型号
ERS2000品牌
IKN产地
德国样本
暂无能耗:
0-40处理量:
0-500L/H物料类型:
其它工作原理:
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纳米氧化铝乳溶胶化机,高剪切乳化机,乳化乳化机,高剪切乳化乳化机,管线式乳化机,管线式分散混合机,间歇式乳化乳化机,间歇式高剪切乳化机,高速乳化机,搅拌乳化机,乳化乳化机,高剪切乳化乳化机,小型乳化机,剪切乳化机
IKN乳化机采用德国博格曼双端面机械密封,在保证冷却水的前提下,可24小时连续运行。而普通乳化机很难做到连续长时间的运行,并且普通乳化机不能承受高转速的运行。
现在乳化机的应用不仅仅局限于“乳化”,由于其独特的剪切作用,对粉粒体在液体中的粉碎撞击zui终细化到理想的粒径,从而使固体质充分掺混到液体中并形成相对稳定的悬浮液,这种过程也就是“分散”。当然与乳化剂一样,添加了分散剂后,悬浮液的稳定性就能得到增强。当某种固体物质通过一定时间与液体的接触能够被液体彻底溶解,那么经剪切撞击而形成的小颗料将更快地被液体所溶解,因为其比表面积增大了好多倍了。
纳米氧化铝溶胶
透明的纳米氧化铝溶胶xz-1128,颜色无色透明,固含量的20%-25%。添加到各种丙烯酸树脂,聚氨酯树脂,环氧树脂,三聚氰胺树脂,硅丙乳液等树脂的水性液体中,添加量为5%到10%,可以明显提高树脂的硬度,硬度可达6-8H甚至更高。并且该铝溶胶xz-1128和各种水性树脂有极好的相溶性。混合均匀后不影响树脂的性质和粘度。同时可以做各种玻璃涂层材料,宝石,精密仪器材料等。
影响纳米材料分散要素:
1,分散介质
(1)根据粘度不同,分散介质分为高粘度,中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中,如水和有机溶剂,纳米材料易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂,液态硅橡胶等,高粘度介质如熔融态的塑料。
2,分散剂
(1)分散剂的选择,与分散介质的结构,极性,溶度参数等密切相关。
(2)分散剂的用量,与纳米材料比表面积和共价键修饰的功能基团有关。
(3)水性介质中,推荐使用TNWDIS。强极性有机溶剂中,如醇,DMF,NMP, 推荐使用TNADIS。
3,分散设备
上海IKN(依肯)机械设备有限公司专门应对纳米材料分散开发的高剪切三级乳化机CMSD2000系列适合大规模地分散纳米氧化铝,纳米氧化锌,纳米氧化铈,纳米氧化铁,纳米氧化铋,纳料ATO合金等产品。纳米金属粉体,碳纳米管,高纯Al2O3,高纯纳米TiO2系列粉体,超活性纳米TiO2催化剂,纳米TiO2液体,纳米TiO2银抗菌剂,纳米高纯ZrO2,超细高纯ZrO2,纳米涂层材料,纳米载银抗菌粉,纳米SiO2,纳米ZnO,光触媒,纳米三防整理剂等系列粉体,液体,制剂在中,低粘度介质里的分散。
分散就是高效,快速,均匀地将一个相或多个相(液体,固体,气体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程。而在通常情 况下各个相是互不相溶的。当外部能量输入时,两种物料重组成为均一相。由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,使物料在定,转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切,离心挤压,液层摩擦,撞击撕裂和湍流等综合作用,形成悬浮液(固/液),乳液(液体/液体)和泡沫(气体/液体)。从而使不相溶的固相,液相,气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下,瞬间均匀精细的分散乳化,经过高频的循环往复,zui终得到稳定的高品质产品。
纳米氧化铝乳化机由1-3个工作腔组成,在马达的高速驱动下,物料在转子与定子之间的狭窄间隙中高速运动,形成紊流,物料受到更强液力剪切,离心挤压,高速切割,撞击和研磨等综合作用,从而达到分散,乳化,破碎的效果。被加工物料本身和物理性质和工作腔的数量以及控制物料在工作腔中停留的时间决定了粒径分布范围及均化,细化的效果和产量的大小。
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设备等级:化工级,卫生I级,卫生II级,无菌级
电机形式:普通马达,变频调速马达,防爆马
电源选择: 380V/50HZ,440V/50HZ
乳化机材质:SUS304 ,SUS316L ,SUS316Ti
乳化机表面处理:抛光,耐磨处理
进出口联结形式:法兰,螺口,夹箍
乳化机选配容器:本设备适合于各种不同大小
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IKN乳化机采用德国博格曼双端面机械密封,在保证冷却水的前提下,可24小时连续运行。而普通乳化机很难做到连续长时间的运行,并且普通乳化机不能承受高转速的运行。
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2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的复合物,具有降低气泡表面张力,裂解气泡的特性。本品由德国柏林化学公司在上世纪七十年代开发上市,在欧美等国家地区已使用三十多年。自2001年我国卫生部允
2023-03-27
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2024-03-13
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2024-03-13
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二氧化硅高含量浆料因其独特的物理和化学性质,如高稳定性、高硬度、高耐磨性和良好的化学惰性,在多个行业中有着广泛的应用。以下是一些主要的应用行业:1.半导体和电子行业芯片制造:二氧化硅浆料用于半导体芯片