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红外金面反射炉应用于科研和生产当中，RHL-E系列红外金面反射炉具备加热速度快，温度范围宽等特点。
应用：
硅、半导体复合材料的快速退火；
可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉；
可用作金属退火炉；
复合材料的耐热性评价炉；
高温膨胀/收缩测试炉；
特点：
椭球型反射面可以快速加热到高温；
仪器参数：
型号 | RHL-E25P | RHL-E210P | RHL-E45P | RHL-E48 | RHL-E410P | RHL-E416 |
温度范围 | RT to 1300 °C | RT to 1300 °C | RT to 1400 °C | RT to 1400 °C | RT to 1400 °C | RT to 1400 °C |
加热腔尺寸 | φ 7 mm x | φ 7 mm x | φ 10 mm x 40 mm | φ10 mm x | φ10 mm x | φ10 mm x |
应用 | 该反射炉需配备水冷系统； **的温度变化会根据样品材料和加热腔的大小不同； 加热区域是一个参考值； | |||||
椭球型反射面可以快速加热到高温，红外金面反射炉应用于科研和生产当中，RHL-E系列红外金面反射炉具备加热速度快，温度范围宽等特点。
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