参考价格
1万元以下型号
20微米 12微米 9微米 6微米品牌
海旭磨料产地
河南郑州样本
暂无纯度:
99%莫氏硬度:
9.0白度:
100目数:
20微米品级:
一级主成分含量(%):
Al2O3制作方法:
煅烧密度(kg/m³):
3.95g/cm3看了平板状氧化铝研磨微粉 煅烧氧化铝抛光粉的用户又看了
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平板状氧化铝抛光粉是以优质工业氧化铝粉为原料,采用特殊生产工艺处理,生产出来的氧化铝抛光粉晶体形状呈六角平板状,因而称之为平板状氧化铝或片状氧化铝。
平板状氧化铝的氧化铝纯度99%以上,具有耐热,耐酸碱腐蚀,硬度高的特点。与传统磨料球形颗粒不同,平板状氧化铝的底面平整,研磨时颗粒贴合工件表面,产生滑动的研磨效果,避免了颗粒尖角对工件表面的划伤,另一方面,平板状氧化铝进行研磨时,研磨压力是均匀分布在颗粒表面,颗粒不易破碎,耐磨性能提高,从而提高了研磨效率和表面光洁度。
对于半导体材料如半导体硅片,平板状氧化铝的应用,可以减少磨削时间,大幅提高研磨效率,减少磨片机的损耗,节省人工和磨削成本,提高磨削合格率。品质接近国外知名品牌。
显像管玻壳磨削工效提高3-5倍;
合格品率提高10-15%,半导体硅片合格品率达到99%以上;
研磨消耗量比普通氧化铝抛光粉减少40-40%;
化学成分:
Al2O3 | ≥99.0% |
SiO2 | <0.2 |
Fe2O3 | <0.1 |
Na2O | <1 |
物理性能:
化学成分 | α-Al2O3 |
颜色 | 白色 |
比重 | ≥3.9g/cm3 |
莫氏硬度 | 9.0 |
生产规格:
型号 | D3(um) | D50(um) | D94(um) |
HXTA40 | 39-44.6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
HXTA35 | 35.4-39.8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
HXTA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
产品应用范围:
1)电子行业 : 半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体(砷化镓、磷化铟)的研磨抛光。
2)玻璃行业 : 水晶,石英玻璃,显象管玻壳屏,光学玻璃,液晶显示器(LCD)玻璃基板,压电石英晶体的研磨加工。
3)涂附行业 : 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。
4)金属和陶瓷加工业:精密陶瓷材料,烧结陶瓷原料,高档高温涂料等
包装:10公斤/塑料袋,20公斤/箱
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