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真空镀膜设备(CVD/PVD)主要用于薄膜沉积工艺,是一连串涉及原子的吸附,吸附原子在表面的扩散及在适当的位置下聚结,在晶圆上沉积一层待处理的薄膜的过程。
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宁波恒普真空股份有限公司拟首次公开发行股票接受上市辅导公告以下为恒普真空股份有限公司拟首次公开发行股票接受上市辅导的公告关于公司基本情况备案表
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