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应用
清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗半导体元件、印刷线路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉积凝胶的基片。
高分子材料表面修饰。
牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
功能
对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 (如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等)进行超清洗。
改变某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。
清除金属材料表面的氧化层。
对被清洗物进行消毒、杀菌。
优点
清除表面有机污染物。
清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。
非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。
绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。
常温条件下清洗,被清洗物的温度变化微小。
能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。
产品名称:Harrick PDC-002
产品编号:
产品规格:
型号规格:PDC—002
整机规格:9×18×11(长×宽×高)英寸 (228×457×279)mm反应舱规格:Φ6×L6英寸耐热玻璃 (Φ152×L152)mm
反应舱有效容积:2.8L
输入电源:220 V/50Hz
整机输入功率:200 W
射频输出档:低档716V DC、10mA DC、7.16W/中档720V DC、15mA DC、10.15W/高档740V DC、40mA DC、29.6W
常用工作气体:空气、氩气、氮气或混合气体等
特征:紧凑的台式设备,没有RF幅射,符合CE安全标准。反应舱盖具备铰链、磁力锁及可视窗口。
选配件:石英等离子清洗舱
提供各自计量两种不同气体进气和监测压力的气体计量混合器Plasma FloTM
需要:兼容的真空泵,*小速率为1.4 m3/hr,**极限为200 MTorr。
包括:1/8英寸NPT针阀束引入气体和控制压力
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