首页 > 分析仪器设备 > 光学仪器及设备 >
日立高新磁控溅射器MC1000
日立高新磁控溅射器MC1000

参考价格

面议

型号

品牌

产地

日本

样本

暂无
柜谷科技发展(上海)有限公司

会员

|

第2年

|

生产商

工商已核实

留言询价
核心参数
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家
留言询价
×

*留言类型

*留言内容

*联系人

*单位名称

*电子邮箱

*手机号

提交
点击提交代表您同意 《用户服务协议》《隐私协议》

虚拟号将在 180 秒后失效

使用微信扫码拨号

为了保证隐私安全,平台已启用虚拟电话,请放心拨打(暂不支持短信)
×
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系

需求描述

单位名称

联系人

联系电话

Email

已与商家取得联系
同意发送给商家
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家

日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够**限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的**样品直径:60 mm

日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的**样品高度:20 mm

特点:

采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件

可处理较厚或较大的样品(选配件)

记忆功能可存储常用加工条件

规格:

项目说明
放电类型磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)
电极组成反向平行盘(嵌入磁铁)
电压**0.4Kv DC(直流可变)
电流**40mA DC

喷镀速率(**)[条件]

压力:7Pa

放电电流:40mA

标靶与样品表面之间的距离:20mm

Pt靶(选配件)15nm/min
Pt-Pd靶(选配件)20nm/min
Au靶(选配件)35nm/min
Au-Pd靶(选配件)25nm/min
样品尺寸**直径Ф60mm
**高度20mm
机械泵135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡2Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)
电源要求单相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-针插头线缆(3m)
尺寸宽度450mm
长度391mm
高度390mm
重量主机:约25Kg 机械泵:约28kg

﹡1:喷镀速率仅供参考

﹡2:主机内不包括靶材。请从选项中选择(鉑,铂-钯,金,金-钯)

创新点

暂无数据!

相关方案
暂无相关方案。
相关资料
暂无数据。
用户评论

产品质量

10分

售后服务

10分

易用性

10分

性价比

10分
评论内容
暂无评论!
公司动态
暂无数据!
技术文章
暂无数据!
问商家
  • 日立高新磁控溅射器MC1000的工作原理介绍?
  • 日立高新磁控溅射器MC1000的使用方法?
  • 日立高新磁控溅射器MC1000多少钱一台?
  • 日立高新磁控溅射器MC1000使用的注意事项
  • 日立高新磁控溅射器MC1000的说明书有吗?
  • 日立高新磁控溅射器MC1000的操作规程有吗?
  • 日立高新磁控溅射器MC1000的报价含票含运费吗?
  • 日立高新磁控溅射器MC1000有现货吗?
  • 日立高新磁控溅射器MC1000包安装吗?
日立高新磁控溅射器MC1000信息由柜谷科技发展(上海)有限公司为您提供,如您想了解更多关于日立高新磁控溅射器MC1000报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
  • 推荐分类
  • 同类产品
  • 该厂商产品
  • 相关厂商
  • 推荐品牌
同品牌产品
MLT-IMN水浴器
关注度 960
MLT-IMNⅡ水浴器
关注度 766
顶置搅拌器MLT-OS20
关注度 843
顶置搅拌器MLT-OS40
关注度 838
免费
咨询
手机站
二维码