我们所提供的紫外臭氧清洗系统是一种简单，经济，高效的材料表面清洗设备。只需把样品放置到托盘上，关上舱门，设置时间，按下运行按钮，就可以在几分钟内，快速去除大多数无机基材上的有机污染物，为您提供超洁净的表面。通过使用高功率紫外线光源产生臭氧，将污染物分解成挥发性化合物。这些挥发性化合物从表面蒸发而不留痕迹。这种方法可产生接近原子级的清洁表面并且不会损坏样品。

应用工艺：

?改善表面亲水性

?表面清洗

?准备薄膜沉积

?表面处理

?紫外固化

?表面灭菌消毒

?去除表面单分子膜

?表面氧化

?清洗AFM / STM探针

?清洗光学元件

可清洗的基材示例：

?石英

?硅

?氧化硅

?氮化硅

?金

?镍

?铝

?砷化镓

?矾土

?玻璃

?不锈钢

可去除的污染物示例：

?光刻胶

?树脂

?人体皮肤油脂

?清洗溶剂的残留物

?塑料/硅片表面油渍

?助焊剂

产品特点：

?成本低；

?120x120mm样品台；

?**处理样品高度为14mm；

?抽屉式样品台，简单方便；

?样品台自安全联锁，防止对人身伤害；

?LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；

?60分钟计时器；

?高强度紫外线灯源；

?可控温的样品台；

?样品清洗无需溶剂；

?超净表面。

产品参数：

下图显示了UV臭氧处理对基材的影响，以改善表面亲水性。

水滴在OTS处理的硅基底(300纳米二氧化硅表面)上，经过紫外臭氧清洗处理前（左图）和处理后（右图）的效果对比。