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C11627-01 纳米膜厚测量仪系列
特性
无参照物工作
尺寸紧凑，节省空间
高速、高准确度
不整平薄膜精确测量
分析光学常数（n，k）
可外部控制
参数
| 型号 | C11627-01 |
| 可测膜厚范围（玻璃） | 20 nm to 50 μm*1 |
| 测量可重复性（玻璃） | 0.02 nm*2 *3 |
| 测量准确度（玻璃） | ±0.4 %*3 *4 |
| 光源 | LED |
| 测量波长 | 420 nm to 720 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
| 工作距离 | 10 mm*3 |
| 可测层数 | *多10层 |
| 分析 | FFT 分析，拟合分析，光学常数分析 |
| 测量时间 | 19 ms/点*5 |
| 光纤接口形状 | FC |
| 外部控制功能 | RS-232C，Ethernet |
| 电源 | AC100 V to 240 V， 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 70W |
*1：以 SiO2折射率1.5来转换
*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差
*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中
*5：连续数据采集时间不包括分析时间
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