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Sciyea金刚石研磨垫,无需混合浆料,节省研抛时间并改善了车间环境,大幅降低泥浆处理成本。研磨垫通过背胶与研磨盘粘贴,以实现便捷的安装和拆卸,金刚石研磨垫可直接安装到现有研磨盘/抛光盘上。
基本信息
粒径:X-4mic、9mic、16mic;
尺寸:640mm、860mm、880mm、980mm、1120mm;
用途:光学器件、化合物半导体、玻璃晶圆、棱镜、陶瓷的研磨工艺;
特性
实现晶片稳定的高去除率和较低的表面粗糙度,更有利于后续的加工;
相对于使用游离磨料更低的生产成本;
更浅的亚表面损伤层;
更加清洁的工作环境;
节能环保,不需建立游离磨料废液沉淀池
产品详情
1.磨料固结于研磨垫中,以实现高效及稳定的去除率,提高研磨效率> 2倍,缩短CMP时间> 20%,磨削率可达同等粒径砂浆研磨工艺的2倍以上
2.优化的磨粒层形状,以实现晶片加工后更高的表面质量,和保证优越的工件平面控制性能(TTV, Warp, Bow)。
3.无需混合浆料,节省时间并改善了工作场所的清洁度,无泥浆处理成本,节省环境清洁费用。
4.通过背胶与研磨盘粘贴,以实现便捷的安装和拆卸,固定的研磨垫可直接安装到现有机器板上,无需额外的资本投资
型号 | 厚度(mm) | 粒径(um) |
Y04 | 2.20 | 4 |
Y09 | 2.20 | 9 |
Y20 | 2.20 | 20 |
YF04 | 2.60 | 4 |
YF09 | 2.60 | 9 |
YF20 | 2.60 | 20 |
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